Tantalum Sputtering Target – Disc

Ang target na sputtering ng Tantalum ay pangunahing inilalapat sa industriya ng semiconductor at industriya ng optical coating.Gumagawa kami ng iba't ibang mga detalye ng tantalum sputtering target sa kahilingan ng mga customer mula sa industriya ng semiconductor at optical na industriya sa pamamagitan ng vacuum EB furnace smelting method.Sa pamamagitan ng pag-iingat sa natatanging proseso ng pag-roll, sa pamamagitan ng kumplikadong paggamot at tumpak na temperatura at oras ng pagsusubo, gumagawa kami ng iba't ibang dimensyon ng mga target ng tantalum sputtering gaya ng mga disc target, rectangular target at rotary target.Bukod dito, ginagarantiya namin na ang tantalum purity ay nasa pagitan ng 99.95% hanggang 99.99% o mas mataas;ang laki ng butil ay mas mababa sa 100um, ang flatness ay mas mababa sa 0.2mm at ang Surface Roughness ay nasa ibaba ng Ra.1.6μm.Ang laki ay maaaring iayon sa mga kinakailangan ng mga customer.Kinokontrol namin ang kalidad ng aming mga produkto sa pamamagitan ng pinagmumulan ng hilaw na materyal hanggang sa buong linya ng produksyon at sa wakas ay naghahatid sa aming mga customer upang matiyak na bibilhin mo ang aming mga produkto na may matatag at parehong kalidad sa bawat lot.

Sinusubukan namin ang aming makakaya upang baguhin ang aming mga diskarte, pahusayin ang kalidad ng produkto, taasan ang rate ng paggamit ng produkto, babaan ang mga gastos, pagbutihin ang aming serbisyo upang matustusan ang aming mga customer ng mas mataas na kalidad ng mga produkto ngunit mas mababang gastos sa pagbili.Kapag pinili mo kami, makukuha mo ang aming matatag na mataas na kalidad na mga produkto, mas mapagkumpitensyang presyo kaysa sa iba pang mga supplier at ang aming napapanahon, mataas na mahusay na mga serbisyo.

Gumagawa kami ng mga target na R05200, R05400 na nakakatugon sa pamantayan ng ASTM B708 ​​at maaari kaming gumawa ng mga target ayon sa iyong ibinigay na mga guhit.Nakikinabang sa aming mataas na kalidad na tantalum ingots, advanced na kagamitan, makabagong teknolohiya, propesyonal na koponan, iniayon namin ang iyong mga kinakailangang sputtering target.Maaari mong sabihin sa amin ang lahat ng iyong mga kinakailangan at nakatuon kami sa pagmamanupaktura ayon sa iyong mga pangangailangan.

Uri at Sukat:

ASTM B708 ​​Standard Tantalum Sputtering Target , 99.95% 3N5 - 99.99% 4N Purity , Disc Target

Mga kemikal na komposisyon:

Karaniwang Pagsusuri:Ta 99.95% 3N5 - 99.99%(4N)

Mga metal na dumi, ppm max ayon sa timbang

Non-Metallic impurities, ppm max ayon sa timbang

Balanse: Tantalum

Sukat ng Butil: Karaniwang laki<100μm Sukat ng Butil

Iba pang laki ng butil na magagamit kapag hiniling

Flatness: ≤0.2mm

Kagaspangan ng Ibabaw:< Ra 1.6μm

Ibabaw：Pinakintab